特許

J-GLOBAL ID：200903043110441270

脱毛低減用の組成物

発明者： デイデイエ・サン-レジエ
出願人/特許権者： ロレアル
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-108677
公開番号（公開出願番号）：特開平8-053329
出願日： 1995年05月02日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 脱毛の低減用の新規な化粧料又は皮膚科用組成物を得る。【構成】 本発明では脱毛の治療用の化粧料組成物又は皮膚科用組成物中に、抗真菌剤と、マクロライド及びピラノシド類に属する抗細菌剤以外の、ハロゲン化化合物よりなる抗細菌剤とを組合せて有効成分として配合してある。脱毛の低減、ならびに毛髪の性状に著るしい改善増強が得られる。

請求項（抜粋）：

少なくとも1種の抗真菌剤を含み、またマクロライド及びピラノシド類に属する抗細菌剤以外のハロゲン化化合物よりなる抗細菌剤の少なくとも1種を含むことを特徴とする、脱毛治療用の化粧料組成物又は皮膚科用組成物。

IPC (21件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 9/06 ,  A61K 9/08 ,  A61K 9/12 ,  A61K 31/085 ADZ ,  A61K 31/095 ,  A61K 31/13 ADB ,  A61K 31/155 ,  A61K 31/165 ,  A61K 31/20 ,  A61K 31/415 ,  A61K 31/44 ADS ,  A61K 33/04 ,  A61K 35/04 ,  A61K 45/08 ,  A61K 31:155 ,  A61K 31:415 ,  A61K 31/44 ,  A61K 31:085 ,  A61K 31:165

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-161425
  
• 養毛料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-268135   出願人：ポーラ化成工業株式会社