特許

J-GLOBAL ID：200903043115000248

パターン画像形成装置及びその方法

発明者： 関谷 卓朗 ,  宮口 耀一郎 ,  林 康朗
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-114425
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324470
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】 リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。【構成】 パターン画像の形成される基板8と、この基板8を保持する基板保持手段7と、基板8と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッド11と、この噴射ヘッド11にパターン画像情報を入力するパターン画像情報入力手段18と、この入力されたパターン画像情報に基づいて噴射ヘッド11から液状樹脂を噴射させ基板8上に樹脂のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなるパターン画像形成装置を設けた。

請求項（抜粋）：

パターン画像の形成される基板と、この基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドにパターン画像情報を入力するパターン画像情報入力手段と、この入力されたパターン画像情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記液状樹脂を噴射させ前記基板上に樹脂のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなることを特徴とするパターン画像形成装置。

IPC (2件)：

G03F 1/00 ,  H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭56-113456
  
• 特開昭63-102936
  
• 特開昭64-003650
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-113456
  
• 特開昭63-102936
  
• 特開昭64-003650