特許
J-GLOBAL ID：200903043115306975
印刷版の製版方法および印刷版
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米田 潤三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-151019
公開番号（公開出願番号）：特開平8-044215
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：
【要約】【目的】 高品質の印刷物が得られ、かつ高い耐刷性を備えた印刷版と、このような印刷版を簡単な工程で製造することができ、さらに光描画も可能な印刷版の製版方法を提供する。【構成】 N型光半導体基板上に形成されたN型光半導体層に、一括露光法および/または光描画露光法により所望のパターンを露光して導電性を発現させ、この露光部分にインキ受容性成分を電着した後、このインキ受容性成分を印刷版用基板上に転写して、インキ受容性部を備える印刷版とする。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面が導電性である基板の表面に光メモリー性を有するN型光半導体層を設けることによりN型光半導体基板を形成し、前記N型光半導体層に所望のパターンを一括露光法および/または光描画露光法で露光して露光部に導電性を発現させ、次いで前記N型光半導体基板を電着浴に浸漬してインキ受容性成分を前記露光部に電着して洗浄乾燥し、次いで前記N型光半導体層上の前記インキ受容性成分を印刷版用基板に転写することを特徴とする印刷版の製版方法。
IPC (2件)：
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