特許
J-GLOBAL ID：200903043120204471
ファイバグレーティングの作製方法及び作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-199991
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048450
出願日： 1996年07月30日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 高品質で長尺なファイバグレーティングを効率的に作製する。【解決手段】 図1の紙面に対して直角方向に移動できる可動ステージ1には、光ファイバ2が設置され、この光ファイバ2上には、位相マスク3が配置される。紫外レーザ光源5から出力された紫外線ビーム6は、反射ミラー7a,7b、ビームエキスパンダ8、スリット9を介して可動ミラー10に導びかれる。可動ミラー10で反射された紫外線ビーム6は、円柱レンズ11及び位相マスク3を通して、光ファイバ2のコアに照射される。照射時には、可動ミラー10は、光ファイバ2の長手方向に走査される。このとき、紫外線の照射により発生した可視光の強度は、光ファイバ2の片端に接続したパワーメータ4により検出される。検出した光強度が常に最大(一定)になるように、可動ステージ1の移動位置を調整する。
請求項（抜粋）：
光ファイバの上に位相マスクを配置し、紫外線を前記位相マスクを通して前記光ファイバのコアに向けて照射しつつ紫外線を光ファイバの長手方向に走査していくことにより、ファイバグレーティングを作製する方法において、紫外線の照射に伴い前記光ファイバのコアから発生する可視光のパワーが常に一定になるように、光ファイバの長手方向及び光ファイバへの紫外光の照射方向に対して直交する方向に沿う光ファイバの位置を制御することを特徴とするファイバグレーティングの作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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