特許
J-GLOBAL ID:200903043126297749
新規なシリコーン化合物及びそれを用いた化粧料
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
滝田 清暉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-023869
公開番号(公開出願番号):特開2001-213966
出願日: 2000年02月01日
公開日(公表日): 2001年08月07日
要約:
【要約】【課題】 この発明は、エステル化触媒が不要で、反応率が高く従って未反応物が少ない経済的な製造方法で得られる特定の変性シリコーン及びこのシリコーンを含有する化粧料に関し、特に皮膚への付着性が良好であると共に、化粧持ちが良く乳化性に優れた化粧料に関する。【解決手段】 記一般式(化1)で表されるシリコーン化合物(式中、R1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基及びオルガノポリシロキサニルシリルアルキル基から成る群から選択される少なくとも1種の置換基であり、R2は下記一般式(化2)で表されるカルボン酸エステル残基であり、R3は炭素数2〜30の飽和または不飽和炭化水素基であり、aは1.0〜2.5であり、bは0.001〜1.5である。)。
請求項(抜粋):
下記一般式(化1)で表されるシリコーン化合物(式中、R1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基及びオルガノポリシロキサニルシリルアルキル基から成る群から選択される少なくとも1種の置換基であり、R2は下記一般式(化2)で表されるカルボン酸エステル残基であり、R3は炭素数2〜30の飽和または不飽和炭化水素基であり、aは1.0〜2.5であり、bは0.001〜1.5である。)。
IPC (12件):
C08G 77/38
, A61K 7/00
, A61K 7/02
, A61K 7/06
, A61K 7/32
, A61K 7/42
, A61K 7/48
, C07F 7/08
, C08K 5/05
, C08L 83/04
, C08L 83/06
, C08L101/14
FI (13件):
C08G 77/38
, A61K 7/00 E
, A61K 7/00 J
, A61K 7/02 Z
, A61K 7/06
, A61K 7/32
, A61K 7/42
, A61K 7/48
, C07F 7/08 X
, C08K 5/05
, C08L 83/04
, C08L 83/06
, C08L101/14
Fターム (97件):
4C083AA082
, 4C083AB032
, 4C083AB051
, 4C083AB052
, 4C083AB172
, 4C083AB232
, 4C083AB242
, 4C083AB442
, 4C083AC012
, 4C083AC022
, 4C083AC071
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC111
, 4C083AC122
, 4C083AC242
, 4C083AC392
, 4C083AC422
, 4C083AC442
, 4C083AC542
, 4C083AC842
, 4C083AD042
, 4C083AD072
, 4C083AD092
, 4C083AD151
, 4C083AD152
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD242
, 4C083AD262
, 4C083AD572
, 4C083BB01
, 4C083BB11
, 4C083BB21
, 4C083BB36
, 4C083BB48
, 4C083CC01
, 4C083CC02
, 4C083CC05
, 4C083CC11
, 4C083CC12
, 4C083CC14
, 4C083CC17
, 4C083CC19
, 4C083CC31
, 4C083DD05
, 4C083DD08
, 4C083DD17
, 4C083DD21
, 4C083DD22
, 4C083DD23
, 4C083DD30
, 4C083DD31
, 4C083DD32
, 4C083DD41
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE10
, 4C083EE12
, 4H049VN01
, 4H049VP09
, 4H049VQ30
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VU04
, 4H049VW02
, 4J002AE00X
, 4J002CP03Z
, 4J002CP16U
, 4J002CP17W
, 4J002CP18Y
, 4J002CP19W
, 4J002DE027
, 4J002EC006
, 4J002FD098
, 4J002FD31Y
, 4J002GB00
, 4J002HA01
, 4J002HA07
, 4J002HA09
, 4J035CA01N
, 4J035CA08N
, 4J035CA10M
, 4J035CA10N
, 4J035CA11U
, 4J035GA01
, 4J035GB02
, 4J035GB03
, 4J035GB05
, 4J035HA01
, 4J035HB02
, 4J035HB03
, 4J035HB05
, 4J035LA02
, 4J035LA03
, 4J035LB14
引用特許:
審査官引用 (11件)
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特開平1-297421
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特開平2-045533
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特開昭63-086922
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特開平4-227618
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毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-138096
出願人:花王株式会社
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特開平4-036287
-
特開平3-118311
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特開平2-101083
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特開平3-005488
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特開昭63-135426
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化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-169265
出願人:信越化学工業株式会社
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