特許
J-GLOBAL ID：200903043133916373
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-181863
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005577
出願日： 1992年06月16日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 洗浄ブラシ自身の汚染による経時劣化を防止する。【構成】 オーバーフロー槽1内の洗浄液11に超音波発振器7による超音波を作用させ、この洗浄液中で基板12を回転ブラシ部5の洗浄ブラシ6により洗浄し、洗浄ブラシ6の汚染を防止する。
請求項（抜粋）：
オーバーフロー槽と、シャッター部と、搬送部と、超音波発振部と、回転ブラシ部とを有する基板洗浄装置であって、オーバーフロー槽は、洗浄液を収容し、対向する側面の上縁付近に基板の搬出入を行うためのスリット形状の開口部を有するものであり、シャッター部は、前記開口部に設けられ、基板の搬出入により開閉するものであり、搬送部は、オーバーフロー槽の開口部間に基板を洗浄液に浸漬して搬送するものであり、超音波発振部は、オーバーフロー槽の洗浄液に超音波を作用するものであり、回転ブラシ部は、前記オーバーフロー槽の洗浄液中で基板を洗浄ブラシにより洗浄するものであることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
