特許

J-GLOBAL ID：200903043138623374

露光装置

発明者： 横田 宗泰 ,  藤塚 清治 ,  白石 嘉弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-106230
公開番号（公開出願番号）：特開平6-295852
出願日： 1993年04月08日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 マスクR1〜R4の位置に応じた位置決め結果を用いて感光基板Pの位置決めを行うことにより、マスク交換手段7の位置に応じて生じる構造体の歪みによる誤差を抑制して、安定した位置決め精度を実現する。【構成】 複数のマスクR1〜R4を保持するマスク交換手段7と、夫々のマスクの像を感光基板P上に露光する露光手段9,11と、Pをこれらに対して位置決めする基板位置決め手段3,4,12,13と、7及び9,11を保持するベース部材2,5とを有し、7によってR1〜R4のそれぞれを所定の位置に対して順次位置決めしながらPに対する露光を行う露光装置20。

請求項（抜粋）：

複数のマスクを所定の位置に対して選択的に位置決め可能に、かつ一体に保持するマスク交換手段と、上記所定の位置に位置決めされたマスクの像を感光基板上に露光する露光手段と、上記感光基板を上記露光手段に対して位置決めする基板位置決め手段と、上記マスク交換手段及び上記露光手段を保持するベース部材とを有し、上記マスク交換手段によつて上記複数のマスクのそれぞれを上記所定の位置に対して順次位置決めしながら上記感光基板に対する露光を行う露光装置において、上記感光基板を交換した際は、常に上記複数のマスクのうち特定のマスクを上記所定の位置に位置決めした状態で上記基板位置決め手段による位置決めを行う位置決め制御手段を具え、上記感光基板に対する露光開始時の上記ベース部材と上記マスク交換手段との位置関係が常に一定となるようにしたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 J ,  H01L 21/30 301 G ,  H01L 21/30 311 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-166717
  
• 特開平2-275616
  
• 特開昭62-198863