特許
J-GLOBAL ID：200903043139092623
全自動半導体及び液晶パネル製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-133019
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324297
出願日： 1993年05月10日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】 一度装置の中にウエハやガラス基板を装置に投入したら、製品の半導体や液晶パネルとして該装置から搬出されるまで、人の手に触れずに半導体や液晶パネルを製造でき、次の工程に入るまでの保管装置も含めた、粒子汚染、分子汚染対策も考慮した全自動半導体及び液晶パネル製造装置を提供すること。【構成】 真空状態で処理を施す複数の真空処理部(V7〜V15)と大気圧状態で処理を施す複数の大気圧処理部(A7〜A15)とを具備すると共に、該真空処理部間、該大気圧処理部間及び該真空処理部と該大気圧処理部の間を処理対象物を自動的に搬送する搬送手段(V1,A1等)を具備し、該真空処理部、大気圧処理部及び搬送手段は外部から遮断されており、装置内に該処理対象物を搬入することにより自動的に該処理対象物に各種処理を施し、半導体又は液晶パネルを製造する。
請求項（抜粋）：
各種処理を施す複数の処理部を具備し、該処理部での処理工程を経て半導体ウエハ又はガラス基板の処理対象物に各種処理を施し、半導体又は液晶パネルを製造する半導体及び液晶パネル製造装置であって、前記処理部は真空状態で処理を施す複数の真空処理部と大気圧状態で処理を施す複数の大気圧処理部とを具備すると共に、該真空処理部間、該大気圧処理部間及び該真空処理部と該大気圧処理部の間を前記処理対象物を自動的に搬送する搬送手段を具備し、該真空処理部、大気圧処理部及び搬送手段は外部から遮断されており、装置内に該処理対象物を搬入することにより自動的に該処理対象物に各種処理を施し、半導体又は液晶パネルを製造することを特徴とする全自動半導体及び液晶パネル製造装置。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101
, H01L 21/68
