ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028103
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215705
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、(B)特定の構造の繰り返し単位を有する酸分解性シロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)一般式(PAG4)で表される活性光線または放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩化合物、(B)少なくとも下記一般式(I)で示される構造単位を有する酸分解性ポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(PAG4)中、Rs1〜Rs3は各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す。またRs1〜Rs3のうちの2つはそれぞれの単結合または置換基を介して結合してもよい。Z-は、対アニオンを表す。を表す。【化2】式(I)中、L1は-A1-OCO-、-A1-COO-、-A1-NHCO-、-A1-NHCOO-、-A1-NHCONH-、-A1-CONH-、-A1-OCONH-又は-A1-S-を表す。A1はアルキレン基、アリーレン基並びに単環式及び有橋式の脂環構造から選ばれる少なくとも1つの2価の連結基を表す。M1は単結合、アルキレン基、アリーレン基、または単環式もしくは有橋式の脂環構造である2価の連結基を表す。 R'〜R'''はそれぞれ独立にアルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、トリアルキルシリル基又はトリアルキルシリルオキシ基を表す。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08L 83/04 , G03F 7/004 503 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08L 83/04 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF30 , 2H025CB43 , 2H025FA17 , 4J002CP051 , 4J002CP091 , 4J002EV296 , 4J002FD146 , 4J002GP03

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