特許
J-GLOBAL ID：200903043178142425
パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331015
公開番号（公開出願番号）：特開平5-164526
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明はパターン検査装置に関し、測定対象物の表面にうねりがある場合においても正確な測定を行うパターン検査装置を提供することを目的としている。【構成】 レーザ光を走査、集光し、予め所定のパターンが形成された測定対象物15の表面上を照射する光照射手段1と、光照射手段1によって測定対象物15に照射されたレーザ光の反射光を検出する光検出手段2と、光照射手段2によるレーザ光の走査位置に対応する測定対象物15の表面位置におけるうねり量を演算するうねり演算手段30と、うねり演算手段30による演算結果に基づいて測定対象物15を所定量傾ける傾斜手段31とを備え、傾斜手段31によって測定対象物15の表面のうねりを補正しつつ、光検出手段2により測定対象物15のパターン検査を行うように構成する。
請求項（抜粋）：
レーザ光を走査、集光し、予め所定のパターンが形成された測定対象物の表面上を照射する光照射手段と、該光照射手段によって該測定対象物に照射された該レーザ光の反射光を検出する光検出手段と、該光照射手段によるレーザ光の走査位置に対応する該測定対象物の表面位置におけるうねり量を演算するうねり演算手段と、該うねり演算手段による演算結果に基づいて該測定対象物を所定量傾ける傾斜手段と、を備え、前記傾斜手段によって前記測定対象物の表面のうねりを補正しつつ、前記光検出手段により該測定対象物のパターン検査を行うことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G06F 15/62 405
, H01L 21/66
, H05K 3/00
