特許

J-GLOBAL ID：200903043187953290

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 田中 久裕
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-131289
公開番号（公開出願番号）：特開平5-325136
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 コイル導体層、磁気ギャップ深さを高精度に形成することができ、設備投資・生産性の面から安価に製造することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を得る。【構成】 非磁性基板1上に、下部磁性層2、ギャップ層3、層間絶縁層4c,4b、コイル導体層5、上部磁性層6および保護層7を順次積層して形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、Cuコイル導体層5のメッキ下地層5cをイオン吸着型触媒付与による無電解メッキ法によって形成する。【効果】 Cuメッキ下地層5cを無電解メッキ法によって形成するため、スパッタリングにる層間絶縁層4cへの熱ダメージを防止し、コイル導体層5を精度良く形成できる。

請求項（抜粋）：

基板上に、下部磁性層と、ギャップ層と、層間絶縁層と、メッキ下地層およびコイル導電層からなるコイル導体層と、上部磁性層と、保護層とを順次積層して薄膜磁気ヘッドを形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記コイル導体層のメッキ下地層の形成を、湿式メッキ法で形成してなる薄膜磁気ヘッドの製造方法。