特許
J-GLOBAL ID:200903043198788771

ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-157351
公開番号(公開出願番号):特開平9-014633
出願日: 1995年06月23日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【目的】 ばいじん等を排ガスから物理濾過処理するとともに、活性炭による吸着処理を効率的に行え、さらに、活性炭の消費量をできるだけ低く抑えることが可能なガス処理装置を得る。【構成】 処理対象ガスの流れ方向に沿って濾布層9と活性炭層10とを備え、前記活性炭層10より吸着能が低下した劣化活性炭を抜き出す抜き出し機構3を備え、抜き出された劣化活性炭に新たな吸着面を露出させる機械的処理を行って劣化活性炭を再生する活性炭再生機構4を備えるとともに、活性炭再生機構4に於ける機械的処理により発生する活性炭粉末を、濾布層9の上流側で処理対象ガス内に混入する混入機構7を、ガス処理装置に備える。
請求項(抜粋):
処理対象ガスの流れ方向に沿って濾布層(9)と活性炭層(10)とを備え、前記活性炭層(10)より吸着能が低下した劣化活性炭を抜き出す抜き出し機構(3)を備え、抜き出された前記劣化活性炭に新たな吸着面を露出させる機械的処理を行って前記劣化活性炭を再生する活性炭再生機構(4)を備えるとともに、前記活性炭再生機構(4)に於ける機械的処理により発生する活性炭粉末を、前記濾布層(9)の上流側で前記処理対象ガス内に混入する混入機構(7)を備えたガス処理装置。
FI (2件):
F23J 15/00 ZAB A ,  F23J 15/00 ZAB J
引用特許:
審査官引用 (2件)

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