特許
J-GLOBAL ID：200903043209116304
人工芝生を用いた地被植物または低灌木などの植栽方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-298968
公開番号（公開出願番号）：特開平7-127067
出願日： 1993年11月04日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】 地被植物などおよび地表面を長期に亘って保護することができ、雑草の繁殖や侵入を防止することができることは勿論のこと、施工性に優れ、地被植物などが生育するのに十分な基盤を形成することができる有用な植栽方法を提供すること。【構成】 地表面6に有機客土8を所定の厚さで吹付けを行った後、この吹付けによって形成された有機客土層9の上面に、切込み3を有する切起し片2が形成された人工芝生1を敷設し、次いで、切起し片2をめくりあげて有機客土層9に植栽穴15を形成し、この植栽穴15に地被植物または低潅木など16を植え込み、その後、地被植物または低潅木など16の上部を切起し片2の切込部位または開口部の内周縁から露出させるように、切起し片2を戻して有機客土層9表面を被覆するようにした。
請求項（抜粋）：
地表面に有機客土を所定の厚さで吹付けを行った後、この吹付けによって形成された有機客土層の上面に、切込みを有する切起し片が形成された人工芝生を敷設し、次いで、切起し片をめくりあげて有機客土層に植栽穴を形成し、この植栽穴に地被植物または低潅木などを植え込み、その後、地被植物または低潅木などの上部を切起し片の切込部位または開口部の内周縁から露出させるように、切起し片を戻して有機客土層表面を被覆することを特徴とする人工芝生を用いた地被植物または低灌木などの植栽方法。
IPC (3件)：
E02D 17/20 102
, A01G 1/00 301
, A01G 13/00 301
