特許
J-GLOBAL ID：200903043219082947
ドライエツチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-167276
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013370
出願日： 1991年07月08日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 透明非晶質絶縁基板のドライエッチングにおいて生じる反応生成物の基板裏面への付着を防止して、後段のウェットエッチングにおける基板白濁を防止する。【構成】 ドライエッチング装置内において、絶縁体基板をガスエッチング室内に搬送した際に、基板裏面を保護するように作動する基板保護手段を、搬送手段に付設する。
請求項（抜粋）：
各々減圧手段を備えた圧力調整室及びガスエッチング室と、被エッチング膜を表面形成した透明非晶質絶縁体基板を保持しこれを上記圧力調整室からガスエッチング室へ移送する内蔵搬送手段を有し、上記搬送手段が、上記透明非晶質絶縁体基板を裏面から支える治具と、この治具からスライド状に延出して当該裏面全体を被覆保護しうる基板保護手段を備えてなるドライエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/306
, H01L 21/68
