特許
J-GLOBAL ID：200903043238987446
基板の表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046338
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222492
出願日： 1995年02月09日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 インターフェイス部を移動させて装置のメンテナンスを行なう際にも、インターフェイス部の周囲環境が清浄にかつ一定に保たれ、クリーンエアーの吹出し部が作業の妨げとならない装置を提供する。【構成】 基板処理ユニット10に対し下向きにクリーンエアーを吹き出すクリーンベンチ26とは独立して、インターフェイス部14に対しクリーンエアーを吹き出すクリーンベンチ28を設ける。露光機16のメンテナンスに際しインターフェイス部を前方の退避位置へ移動させたときに、インターフェイス部と一体にその上方のクリーンベンチが移動するようにした。
請求項（抜粋）：
基板を表面処理する第1の基板処理部と、この第1の基板処理部での表面処理とは別の表面処理を基板に施す第2の基板処理部と、前記第1の基板処理部と第2の基板処理部との間に、それぞれの基板処理部に隣接するように介設され、第1の基板処理部と第2の基板処理部との間で基板を受け渡しするインターフェイス部と、前記第1の基板処理部及びインターフェイス部の上方空間を覆うように配設され、第1の基板処理部及びインターフェイス部に対して下向きにクリーンエアーを吹き出すエアー吹出し部とを備えた基板の表面処理装置において、前記エアー吹出し部を分割して、前記インターフェイス部に対してクリーンエアーを吹き出すインターフェイス吹出し部を他の部分から独立させるとともに、インターフェイス部を、前記第1及び第2の各基板処理部においてそれぞれ基板の表面処理が行なわれる定常運転時の位置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可能とし、かつ、前記インターフェイス吹出し部をインターフェイス部と一体に移動可能とする移動手段を設けたことを特徴とする基板の表面処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, F24F 7/06
, H01L 21/027
, H01L 21/68
H01L 21/02 D
, F24F 7/06 C
, H01L 21/68 A
, H01L 21/30 502 J
, H01L 21/30 569 D
