酸発生剤、スルホン酸、スルホニルハライド化合物および感放射線性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004001973
公開番号（公開出願番号）：WO2004-078703
出願日： 2004年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

燃焼性や人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が高く、レジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、マスクパターンの疎密度への依存性が小さく、平滑性に優れたレジストパターンを形成しうる新規な酸発生剤、該酸発生剤から発生するスルホン酸、該酸発生剤を合成する原料等として有用なスルホニルハライド化合物、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。〔但し、R1はアルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルコキシスルホニル基等の1価の置換基を示し、R2〜R4は水素原子またはアルキル基を示し、kは0以上の整数、nは0〜5の整数である。〕感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される構造を有する化合物からなる酸発生剤。

IPC (6件)：

C07C 317/06 , C07C 309/19 , G03F 7/004 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07C317/06 , C07C309/19 , G03F7/004 503A , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025AD05 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB42 , 2H025CC17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006TA02 , 4H006TB03 , 4H006TB05

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