パターン座標測定方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-103898
公開番号（公開出願番号）：特開平10-281722
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】ステージ振動等によるステージ位置の誤差などを低減し、高精度にパターンの座標位置を測定できるようにする。【解決手段】光源6の光を試料2上に照明し、その反射光をCCDカメラ7に結像する。CPU10によってX-Yステージ1を駆動制御して、試料2上のパターン3をCCDカメラ7で観察可能な位置に移動させて停止する。CCDカメラ7に取り込んだパターン3の画像を、A/Dコンバータ9でデジタル変換した後、フレームメモリ8に格納し、CPU10で画像解析して、画像上のパターン位置を算出する。一方、パターン3の画像をCCDカメラ7で取り込むタイミングで、レーザ干渉計5の値を一定周期でサンプリングし、ステージ位置の平均値を算出する。ステージ1位置の平均値と画像上のパターン位置とから、試料2上のパターン3の位置座標を得る。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された試料をステージ上に載置し、ステージを所望の位置に停止してパターン像をCCDカメラにより取り込む画像取込期間に、前記ステージの位置検出のサンプリングを行い、サンプリングされたステージ位置の検出値の平均値と前記CCDカメラで取り込んだ画像から画像上のパターン位置とを求めて、前記試料上のパターンの位置座標を得るようにしたことを特徴とするパターン座標測定方法。

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