特許
J-GLOBAL ID：200903043251359977
レーザ装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260718
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083460
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 レーザ光の光パワー密度を均一化させ、製造が容易で低コスト化を図ることができるレーザ装置を提供すること。【解決手段】 本発明は、光軸13,29の垂直面内で発光パターンがストライプ状になる第1平行光束(第1光束)、第2平行光束(第2光束)をPBS2の偏光膜6表面、裏面に入射しそれらの合成光を出射するレーザ装置において、ストライプ長手方向に振動する第1電界成分を持つ第1光束を第1電界成分が偏光膜6表面にp偏光となるようPBS2に入射する手段、そのストライプ長手方向の垂直方向に振動する第2電界成分を持つ第2光束を第2電界成分が偏光膜6裏面にs偏光となるようPBS2に入射する手段を備える。この場合、第1電界成分は偏光膜6表面にp偏光として入射され、第2電界成分は偏光膜6裏面にs偏光として入射されるため、偏光膜6で第1、第2光束のストライプが平行となり得る。
請求項（抜粋）：
光軸に垂直な面内で発光パターンがストライプ状になる第1平行光束及び第2平行光束を偏光ビームスプリッタの偏光膜の表面及び裏面にそれぞれ入射し、前記第1平行光束及び前記第2平行光束の合成光を出射するレーザ装置において、前記第1平行光束として、そのストライプの長手方向に振動する第1電界成分を有するものを、前記第1電界成分が前記偏光膜の表面に対しp偏光となるよう前記偏光ビームスプリッタに入射する第1光入射手段と、前記第2平行光束として、そのストライプの長手方向に垂直な方向に振動する第2電界成分を有するものを、前記第2電界成分が前記偏光膜の裏面に対しs偏光となるよう前記偏光ビームスプリッタに入射する第2光入射手段と、を備えることを特徴とするレーザ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 27/28 Z
, H01S 5/022
2H099AA17
, 2H099BA17
, 2H099CA02
, 2H099DA05
, 5F073AA73
, 5F073AB05
, 5F073AB27
, 5F073BA09
, 5F073CA04
, 5F073CA07
, 5F073EA29
, 5F073FA15
, 5F073FA26
