特許
J-GLOBAL ID:200903043259704436

半導体薬液用微量金属連続測定装置および測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-328852
公開番号(公開出願番号):特開2003-130846
出願日: 2001年10月26日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】 被検液中に10ppb濃度以下、特に100pptオーダーで存在する多種類の微量金属を、同時迅速高感度で且つ連続的に測定する方法、およびそれを可能にする水銀電極式電気化学的分析装置を提供する。【解決手段】 水銀滴を一方の電極とする電気化学的分析装置において、測定セル内に他方の電極に対して下方に配置した上部開放型水銀キャピラリーから水銀滴を上向きに押し出してこれを水銀電極とすることを特徴とする水銀電極式電気化学的分析装置。上記装置を用いるカソーディック・ストリッピング・ボルタンメトリーによる微量金属濃度の測定において、測定すべき複数の金属種に応じた1種または2種以上の錯形成剤を用い、緩衝剤、pH値および電極条件を統合して選ぶことにより1回の電位掃引で存在する複数の金属の濃度を同時に測定する複数種の金属の微量金属測定方法。
請求項(抜粋):
水銀滴を一方の電極とする電気化学的分析装置において、測定セル内に他方の電極に対して下方に配置した上部開放型水銀キャピラリーから水銀滴を上向きに押し出してこれを水銀電極とすることを特徴とする水銀電極式電気化学的分析装置。
IPC (4件):
G01N 27/48 301 ,  G01N 27/26 361 ,  G01N 27/416 ,  G01N 27/49
FI (4件):
G01N 27/48 301 ,  G01N 27/26 361 F ,  G01N 27/46 353 Z ,  G01N 27/46 306

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