特許

J-GLOBAL ID：200903043265843294

オゾン処理装置

発明者： 横見 哲介 ,  折島 寛
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-418932
公開番号（公開出願番号）：特開平6-339693
出願日： 1990年12月28日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：

【要約】【目的】 複数の浴槽等に溜められた被処理水Wを1基のオゾン発生機10を用いてマルチ処理するオゾン処理装置において、複数の浴槽等に対応して設けた反応塔20へ供給するオゾン量の個別制御を容易とし、且つオゾンの有効利用を図る。【構成】 被処理液Wが循環される複数の反応塔20へ、オゾン発生機10からオゾンを順番に供給する。オゾン供給後、次のオゾン供給が始まるまでの間、その反応塔20では、被処理水Wから分離された未反応オゾンがオゾン循環路80を通じて20に循環される。最終的に残った未反応オゾンは、オゾン分解機70へ送られる。

請求項（抜粋）：

1基のオゾン発生機およびオゾン分解機と、気液分離機能を有する複数の反応塔と、複数の反応塔へ被処理液をそれぞれ巡回させる液供給路と、複数の反応塔にそれぞれ設けられ、反応塔へ送られる被処理液にオゾンを混合させる気液混合手段と、各気液混合手段へ1基のオゾン発生機から順番にオゾンを供給するオゾン供給路と、複数の反応塔にそれぞれ設けられ、反応塔で被処理液から分離された未反応オゾンをその反応塔へ循環させるオゾン循環路と、複数の反応塔で分離された未反応オゾンをオゾン分解機へ順番に排出するオゾン排出路とを具備するオゾン処理装置。

IPC (7件)：

C02F 1/78 ZAB ,  A47K 3/00 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540