特許
J-GLOBAL ID:200903043266247024

フィルム厚測定装置及び測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 廣江 武典
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-500860
公開番号(公開出願番号):特表平8-510838
出願日: 1994年05月20日
公開日(公表日): 1996年11月12日
要約:
【要約】プラズマ処理最中に、ウエハー(308、1708)を撮像するCCDカメラ(342、1742)を使用し、現場にて、エッチングあるいはデポジションレート均等性を測定するための新技術が開発された。この技術は、ウエハー(308、1708)から反射する放射プラズマあるいはレーザー光(360、1770)のテンポラルなモジュレーションを記録する。このモジュレーションは、薄フィルム(313、1713)がエッチングあるいはデポジションされているときの干渉によって引き起こされる。測定されたこのエッチングレートは、ヘリウム-ネオンレーザー干渉によって決定されるものに劣らない。この技術は100mm以上のウエハー(308、1708)のエッチングレートを測定することができる。この技術は、ウエハー全面あるいはダイ(308、1708)内のエッチングレート変化に対処できる。本発明は、エッチング操作のエンドポイント決定と、薄フィルム(313、1713)の絶対厚の測定にも使用可能である。
請求項(抜粋):
基板上の薄フィルムの厚みの変化を測定する装置であって、以下記載の要素を含んでいることを特徴とする装置: a.前記薄フィルムと前記基板とを支持する支持部; b.該支持部から離れており、前記薄フィルムから反射する電磁線を検出する検出手段のアレイであって、該アレイは該各検出手段に対して個々に回収可能な信号を提供するものであり、該各信号は前記薄フィルムの1領域に対応するものであるアレイ; c.前記検出手段のアレイに対して、少なくとも1選択範囲の波長の電磁線を伝達させるフィルター手段; d.前記薄フィルムから反射した電磁線を焦点させる焦点手段であって、該薄フィルムと前記アレイとの間にアレンジされており、該薄フィルムの1領域の画像を前記アレイに焦点させる焦点手段; e.前記フィルター手段を介して伝達された電磁線に対応し、一定時間にわたって、前記検出手段のアレイにより発生される信号に対応したデータ信号の時間シーケンスを保存する保存手段; f.前記一定時間の一部にわたり、前記アレイの少なくとも1検出手段に対するデータ信号を比較し、その比較から、該一定時間の一部にわたり、前記アレイの少なくとも1検出手段に焦点されたフィルム領域のフィルム厚の変化を決定するデータ処理手段。
IPC (4件):
G01B 11/06 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/66
FI (4件):
G01B 11/06 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/66 Q ,  H01L 21/302 E

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