特許
J-GLOBAL ID：200903043281477591
スパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-276402
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128739
出願日： 1992年10月15日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明は,各種基板上に薄膜を形成するためのスパッタ装置の内部構造の改良に関し,スパッタ膜の膜質や膜厚の均一性,またカバレージの改善を目的とする。【構成】 基板1の前面に, スパッタ粒子2の粒子選別装置3を設け, 基板1に対向するターゲット4から基板1上にほぼ垂直方向にスパッタされるスパッタ粒子2のみを粒子選別装置3において選別して, 基板1上にスパッタする機構を有するスパッタ装置において, ターゲット4から入射するスパッタ粒子2の入射方向を制限するように, 所定の長さを有して入射方向に延びる柱状開口部を設けてなり, かつ回転駆動部5に入射方向に延びる軸で連結されて, 入射方向に垂直面で回転する粒子選別装置3を有するように構成する。
請求項（抜粋）：
基板(1) の前面に, スパッタ粒子(2) の粒子選別装置(3) を設け, 該基板(1) に対向するターゲット(4) から該基板(1) 上にほぼ垂直方向にスパッタされる該スパッタ粒子(2) のみを該粒子選別装置(3) において選別して, 該基板(1) 上にスパッタする機構を有するスパッタ装置において,前記ターゲット(4) から入射する前記スパッタ粒子(2) の入射方向を制限するように, 所定の長さを有して前記入射方向に延びる柱状開口部を設けてなり, かつ回転駆動部(5) に前記入射方向に延びる軸で連結されて, 入射方向に垂直面で回転する該粒子選別装置(3) を有することを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/54
, H01L 21/203
