特許

J-GLOBAL ID：200903043283743272

堆積膜形成装置および堆積膜形成方法

発明者： 秋山 和敬 ,  村山 仁 ,  細井 一人 ,  田澤 大介 ,  白砂 寿康 ,  大塚 崇志 ,  青池 達行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-309435
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115065
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 堆積膜形成装置内部のダストの発生を防止し、堆積膜中の欠陥の発生を抑制する。【解決手段】 堆積膜形成装置の内部の放電空間に面する部材の少なくとも一部の表面を、10点平均粗さRzが5μm以上200μm以下でかつ、平均傾斜角θaが5度以上45度以下の範囲となるように粗す。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 減圧可能な反応容器内に設置された基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置であって、前記基体以外の堆積膜が付着する部材の表面の少なくとも一部の表面の粗さにおいて十点平均粗さRzが5μm以上200μm以下の範囲でありかつ、平均傾斜角θaが5度以上45度以下の範囲にあること特徴とする堆積膜形成装置。

IPC (7件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/24 ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 311 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (7件)：

C23C 16/44 J ,  C23C 16/24 ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 311 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 V

Fターム (19件)：

2H068DA00 ,  2H068EA24 ,  4K030AA06 ,  4K030BA30 ,  4K030KA46 ,  4K030LA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045BB15 ,  5F045BB17 ,  5F045CA16 ,  5F045DP25 ,  5F045EC05 ,  5F051AA05 ,  5F051CA15 ,  5F051CA16