特許
J-GLOBAL ID：200903043291940869
X線用ハーフミラーおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-076590
公開番号（公開出願番号）：特開平9-264999
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：
【要約】【課題】 X線用のハーフミラーを提供する。【解決手段】 貫通孔11をもつ基台1と該貫通孔を塞ぐように該基台表面に形成された保持薄膜と該保持薄膜上に形成されX線を反射する多層反射膜3とからなるX線用ハーフミラーであって、該保持薄膜はイオン照射処理を受けた窒化珪素薄膜2で形成されていることを特徴とする。窒化珪素薄膜2にイオン照射処理を施すことにより耐破性が高まり、破れないX線を透過する保持薄膜とすることができ、X線用のハーフミラーを完成した。
請求項（抜粋）：
貫通孔をもつ基台と該貫通孔を塞ぐように該基台表面に形成された保持薄膜と該保持薄膜上に形成されX線を反射する多層反射膜とからなるX線用ハーフミラーであって、該保持薄膜はイオン照射処理を受けた窒化珪素薄膜であることを特徴とするX線用ハーフミラー。
FI (2件)：
G21K 1/06 C
, G21K 1/06 D
