特許

J-GLOBAL ID：200903043298255606

光学活性アルコールの製造方法

発明者： 岡野 一哉 ,  宮城 美和 ,  岩根 寛
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303951
公開番号（公開出願番号）：特開平11-322649
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】 工業的製造においてより少ない触媒量で高い化学収率、高いeeが得られる光学活性アルコールの製造方法の提供。【解決手段】 一般式(I)【化1】(式中、R1 及びR2 は、互いに異なり、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基又は複素環基を表す。また、R1 及びR2 が結合して環を形成してもよい)で示されるケトン類を、遷移金属触媒及び第三級アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型不斉還元反応により還元する際、アミンに対する反応系に存在するギ酸のモル比が2.2以下の範囲内で反応を行うことを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R1 及びR2 は式(I)と同義である)で示される光学活性アルコールの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1 及びR2 は、互いに異なり、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基又は複素環基を表す。また、R1 及びR2 が結合して環を形成してもよい)で示されるケトン類を、遷移金属触媒及び第三級アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型不斉還元反応により還元する際、アミンに対する反応系に存在するギ酸のモル比が2.2以下の範囲内で反応を行うことを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R1 及びR2 は式(I)と同義である)で示される光学活性アルコールの製造方法。

IPC (7件)：

C07C 33/46 ,  B01J 31/02 102 ,  B01J 31/22 ,  C07B 53/00 ,  C07C 29/143 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (6件)：

C07C 33/46 ,  B01J 31/02 102 X ,  B01J 31/22 X ,  C07B 53/00 B ,  C07C 29/143 ,  C07B 61/00 300