特許

J-GLOBAL ID：200903043301296149

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法

発明者： 加藤 英人
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158325
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335464
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 新規なオルガノシロキサン系高分子化合物、及び幅広い波長の光で露光出来且つ酸素障害を受けず容易に薄膜を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物、並びに耐ドライエッチング性に優れた微細なパターンを形成することが可能で環境上も好ましいパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 式【化20】[式中、R1 〜R4 は同一でも異なってもよい炭素数1〜6の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基を示し、Zは-CH2-又は-C(CH3)2 -を示す。また、nは1〜1000の整数であり、mは0又は1である。]で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200, 000のオルガノシロキサン系高分子化合物。

請求項（抜粋）：

式【化1】[式中、R1 〜R4 は同一でも異なってもよい炭素数1〜6の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基又はアリール基を示し、Zは-CH2-又は-C(CH3)2 -を示す。また、nは1〜1000の整数であり、mは0又は1である。]で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200, 000のオルガノシロキサン系高分子化合物。

IPC (8件)：

C08G 77/52 ,  C08G 14/06 ,  C08L 61/20 ,  C08L 83/10 ,  C08L 83/14 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C08G 77/52 ,  C08G 14/06 ,  C08L 61/20 ,  C08L 83/10 ,  C08L 83/14 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R