特許
J-GLOBAL ID：200903043310055227
フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282348
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134394
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクと単結晶シリコン基板との位置合わせズレに起因する、球レンズ固定用の溝の大きさのばらつきをなくすフォトマスクを提供する。【構成】 単結晶基板の異方性エッチングに使用するフォトマスクであって、該フォトマスク11のマスクパターン12が定幅曲線であり、このマスクがどのような角度となっても常に同一の大きさの正方形を底辺に持つ四角錐の溝が形成できる。
請求項（抜粋）：
単結晶基板の異方性エッチングに使用するフォトマスクであって、該フォトマスクのマスクパターンが定幅曲線であることを特徴とするフォとフォトマスク。
IPC (2件)：
前のページに戻る
