特許
J-GLOBAL ID：200903043310282517
現像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-313465
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163392
出願日： 1992年11月24日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 化学増幅型レジストを用い、露光後現像処理に移行するまでの経時時間に依存せず、常に安定した高精度のレジストパターンを得ることができる現像装置を提供することである。【構成】 本発明に従う現像装置では、カセット2内に収納された露光済みウエハ1を現像処理に移行させるまでの間保管する保管庫8がカセットステーション3と一体的に形成され、その保管庫8内の温度および雰囲気がエアコンディショナ9によって調整されるように構成される。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたレジスト膜を現像する現像装置であって、前記レジスト膜を現像処理に移行させるまでの間、前記基板を収納する保管室を備え、前記保管室内の温度および雰囲気が調整されることを特徴とする現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
