特許
J-GLOBAL ID:200903043315592263

研摩装置及び研摩方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-107069
公開番号(公開出願番号):特開平11-285964
出願日: 1998年04月02日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【解決手段】 供給ロールに巻装され、この供給ロールから繰り出されると共に、巻取ロールにて巻取られる長尺帯状の研摩パッドと、この研摩パッドを走行させる駆動装置と、上記研摩パッドが配される上面に多数の吸引孔が穿設され、これら吸引孔を介して上記研摩パッドを真空吸引可能な定盤と、この定盤の上方に配置され、先端に被研摩物を保持する治具体を備えた被研摩物保持装置と、上記定盤上面上の研摩パッドに研摩剤を供給する研摩剤供給装置とを具備することを特徴とする研摩装置。【効果】 本発明によれば、平板状、円盤状の被研摩物を効率よく確実に平坦研摩することができる。
請求項(抜粋):
供給ロールに巻装され、この供給ロールから繰り出されると共に、巻取ロールにて巻取られる長尺帯状の研摩パッドと、この研摩パッドを走行させる駆動装置と、上記研摩パッドが配される上面に多数の吸引孔が穿設され、これら吸引孔を介して上記研摩パッドを真空吸引可能な定盤と、この定盤の上方に配置され、先端に被研摩物を保持する治具体を備えた被研摩物保持装置と、上記定盤上面上の研摩パッドに研摩剤を供給する研摩剤供給装置とを具備することを特徴とする研摩装置。
IPC (2件):
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 621
FI (3件):
B24B 37/00 C ,  B24B 37/00 A ,  H01L 21/304 621 B

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