特許

J-GLOBAL ID：200903043336709683

高密度ミリ波によるセラミックスの製造方法及び装置

発明者： 三宅正司 ,  節原裕一
出願人/特許権者： 新技術事業団
代理人 (1件)： 中村 尚
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-259002
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087663
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 高密度ミリ波によってセラミックスを効率的に加熱する技術を提供する。【構成】 平均出力が100W以上で連続又はパルス状のミリ又はサブミリメートルの電磁波発生器(例、ジャイロトロン)を用い、これと準光学的アンテナ系(例、楕円反射筒及び放物線反射筒で構成した反射・収束系)により収束したビームを加工材料に照射して加熱するに際し、加工材料を金属製の加工炉中に配置し、加工炉の窓を通して導入して、大気圧下で加工材料を加熱する。加工炉中に金属製反射板を設け、誘電体製窓とこの反射板との間に加工材料を配置することにより更に効率的に加熱できる。ビームを走査し或いは加工材料を移動乃至回転させることにより均一な加熱が可能である。加工炉の雰囲気を大気、気体又は真空までの可変雰囲気にできる。加工材料を短時間に内部加熱することができ、加工材料の形状も制限されない。特にマイクロ波誘電加熱式では加熱できない高純度Al2O3なども加熱、焼結することができ、セラミックスの表面改質などにも応用できる。

請求項（抜粋）：

平均出力が100W以上で連続又はパルス状のミリ又はサブミリメートルの電磁波発生器を用い、これと準光学的アンテナ系で構成した反射・収束系により収束したビームを加工材料に照射して加熱するに際し、加工材料を金属製の加工炉中に配置し、加工炉の窓を通して導入して、大気圧下で加工材料を加熱することを特徴とする高密度ミリ波によるセラミックスの製造方法。