特許
J-GLOBAL ID：200903043340298671
フォトレジストの現像方法および現像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-266037
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111589
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：
【要約】【課題】 レジストパターン幅のばらつきを低減できるフォトレジストの現像方法および現像装置を提供する。【解決手段】 本発明の現像装置は、フォトレジスト1が形成された基板2を吸着固定するチャック3と、高温の現像液を吐出する高温吐出部11と低温の現像液を吐出する低温吐出部12とを有する現像液供給装置4と、現像液供給装置4の現像液吐出制御を行う吐出制御装置5とを備える。基板2をチャック3に吸着固定させた状態で、現像液供給装置4を基板2の一辺の上方に配置し、高温吐出部11のみから現像液を吐出し、現像液供給装置4を徐々に移動させる。現像液供給装置4が基板2の中央付近まで移動すると、吐出制御装置5は、高温吐出部11からの吐出を停止させて、代わりに、低温吐出部12から現像液を吐出させる。その状態で、基板2の対向辺まで現像液の吐出を行う。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたフォトレジストの上面に、基板の一辺から対向する辺にかけて徐々に現像液を付着させて現像処理を行うフォトレジストの現像方法において、現像処理後に形成されるレジストパターンの線幅がばらつかないように、前記フォトレジスト上の現像液の付着位置に応じて、前記フォトレジストに付着される現像液の温度を変更することを特徴とするフォトレジストの現像方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G02F 1/13 101
H01L 21/30 569 F
, G02F 1/13 101
, H01L 21/30 502 H
