特許
J-GLOBAL ID:200903043351463976

エキシマレーザ装置又はフッ素分子レーザ装置及びその出力ビームパラメータを安定化させる方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-215520
公開番号(公開出願番号):特開2002-118309
出願日: 2001年07月16日
公開日(公表日): 2002年04月19日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 動作中にレーザビームを放出し、初めに与えられたガス組成のガス混合体を放電チャンバ内に有するエキシマレーザ又はフッ素分子レーザ装置を提供する。【解決手段】当該レーザ装置は、少なくともハロゲン含有種及びバッファガスを含むレーザガス混合体を含む放電チャンバと、前記放電チャンバ内に配置され、前記ガス混合体を付勢するための放電回路に接続した複数の電極と、レーザビームを発生する共振器と、電圧が印加され、前記ガス混合体流から汚染粒子を集塵する静電式の集塵器と、前記静電式の集塵器に印加される電圧をモニタすると共に、静電式の集塵器に印加される電圧に応じてガス混合体の状態を決定するプロセッサとを具える。
請求項(抜粋):
動作中にレーザビームを放出し、初めに与えられたガス組成のガス混合体を放電チャンバ内に有するフッ素分子のエキシマレーザであって、少なくともハロゲン含有種及びバッファガスを含むレーザガス混合体を含む放電チャンバと、前記放電チャンバ内に配置され、前記ガス混合体を付勢するための放電回路に接続した複数の電極と、レーザビームを発生する共振器と、電圧が印加され、前記ガス混合体流から汚染粒子を集塵する静電式の集塵器と、前記静電式の集塵器に印加される電圧をモニタすると共に、静電式の集塵器に印加される電圧に応じてガス混合体の状態を決定するプロセッサとを具えるエキシマレーザ装置。
IPC (2件):
H01S 3/036 ,  H01S 3/225
FI (2件):
H01S 3/03 J ,  H01S 3/223 E
Fターム (8件):
5F071AA04 ,  5F071AA06 ,  5F071DD04 ,  5F071DD08 ,  5F071GG05 ,  5F071HH02 ,  5F071JJ05 ,  5F071JJ09

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