特許
J-GLOBAL ID:200903043351538852

金属含有シロキサン系ポリマおよび光導波路

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-209772
公開番号(公開出願番号):特開2000-039529
出願日: 1998年07月24日
公開日(公表日): 2000年02月08日
要約:
【要約】【課題】 シロキサン系ポリマ膜は吸湿により屈折率が経時的に変化してしまい、それを用いた光導波路の特性が劣化して耐環境性に劣るものであった。【解決手段】 シロキサン系ポリマの主鎖骨格のシリコンに対して原子数比で1/(金属の原子価)%以上の金属原子を含有させ、末端基のうち水酸基の占める割合を1%未満とした金属含有シロキサン系ポリマである。また、この金属含有シロキサン系ポリマから成るクラッド部2・8内にこのクラッド部2・8よりも屈折率が0.1 %以上大きな金属含有シロキサン系ポリマから成るコア部7を形成した光導波路である。吸湿による屈折率の経時的な変化が抑制され、耐環境性に優れた高信頼性のシロキサン系ポリマおよび光導波路が得られる。
請求項(抜粋):
シロキサン系ポリマの主鎖骨格のシリコンに対して原子数比で1/(金属の原子価)%以上の金属原子を含有させ、末端基のうち水酸基の占める割合を1%未満としたことを特徴とする金属含有シロキサン系ポリマ。
IPC (2件):
G02B 6/12 ,  C08G 77/58
FI (2件):
G02B 6/12 N ,  C08G 77/58
Fターム (10件):
2H047AA03 ,  2H047EE02 ,  2H047EE28 ,  2H047GG05 ,  4J035CA01K ,  4J035FB10 ,  4J035HA05 ,  4J035LA03 ,  4J035LB17 ,  4J035LB20
引用特許:
審査官引用 (2件)

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