塗布描画装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206154
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024179
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【目的】全体として断面形状が一様なペーストパターンの描画を可能とする。【構成】ノズル4(図示せず)の先端に対して基板2はX、Y軸方向の2方向に移動できる。このノズル4の先端からペーストが吐出されて基板2上のペースト塗布点4aに落下し、基板2の移動により、基板2上にペーストパターンが描画される。ノズルを搭載したZ軸テーブル7(図示せず)に光学式変位計6(図示せず)が設けられ、その投光部6aからの光は基板2上の測定点6cで反射され、受光部6bで受光される。これにより、光学式変位計6はノズル4の先端、基板2間の間隔を計測する。ここで、測定点6cは、ペースト塗布点4aに対し、基板2の移動方向よりも角度θだけ異なる方向に位置付けられ、角度θを略45 ゚とすることにより、基板2の移動方向に拘らず、測定点6cが塗布されるペーストパターンに近接したり、横切らないようにする。

請求項（抜粋）：

ペースト収納筒に設けられたノズルの先端に対向させて基板をテ-ブル上に保持し、該ノズルから該ペースト収納筒に収納されているペ-ストを吐出させながら該基板および該ノズルの少くとも一方を相対的に移動させることにより、該基板上にペーストによる所望のパタ-ンを描画する塗布描画装置において、該ノズルから吐出されるペーストが落下する該基板上のペースト塗布点からみて該基板および該ノズルの相対的に移動可能な直交する2方向に対して斜め方向の点を測定点とする変位計測手段を設け、該変位計測手段の該測定点での測定により、該ノズルの先端と該基板との間の間隔を計測することができるように構成したことを特徴とする塗布描画装置。

IPC (3件)：

B41F 17/14 , H01C 17/06 , H05K 3/10

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-303787
特開昭63-278856
特開平1-308093

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