特許
J-GLOBAL ID：200903043363134749
プラズマ処理装置の電極構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-287461
公開番号（公開出願番号）：特開平8-130100
出願日： 1994年10月27日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：
【要約】【目的】プラズマ処理装置のプラズマ処理装置に於いて、試料台と直流電極とを分離する構造とすることにより、製作コストを低減すると共に消耗品の交換に要するランニングコストを低減しようとするものである。【構成】対向電極6に対向させ静電吸着用電極10を配設し、該静電吸着用電極に直流電源12を接続し、該静電吸着用電極の前記対向電極と対峙する面に接して絶縁性材料の試料台17を設け、静電吸着用電極に直流電界を印加した状態でプラズマを生成すると、プラズマから荷電子が試料に入射することで試料が帯電し、試料は高周波電極に吸引密着される。
請求項（抜粋）：
対向電極に対向させ静電吸着用電極を配設し、該静電吸着用電極に直流電源を接続し、前記静電吸着用電極の前記対向電極と対峙する面に接して絶縁性材料の試料台を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置の電極構造。
IPC (6件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/203
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
