特許

J-GLOBAL ID：200903043363610095

光触媒材料の製造方法

発明者： 井上 孝啓 ,  澤田 康志
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-076364
公開番号（公開出願番号）：特開平9-262466
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】 酸化チタンを含有する層を担体に形成した後、活性化して製造する光触媒材料の製造方法であって、耐熱性が低い担体にも形成することができ、かつ、生産性が優れた光触媒材料の製造方法を提供する。【解決手段】 100〜280°Cでプラズマ処理を行い活性化する。

請求項（抜粋）：

酸化チタンを含有する層を担体の表面に形成した後、活性化して製造する光触媒材料の製造方法において、活性化する方法が、100〜280°Cでプラズマ処理を行う方法であることを特徴とする光触媒材料の製造方法。

IPC (3件)：

B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/34

FI (3件)：

B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/34