特許

J-GLOBAL ID：200903043393825185

流動層反応装置及びその制御方法

発明者： 上谷 順一 ,  俵 洋一 ,  原尻 八郎 ,  古田 雅一 ,  日浦 文明 ,  江川 善雄
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  日鐵プラント設計株式会社
代理人 (1件)： 小堀 益
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-098135
公開番号（公開出願番号）：特開平6-304467
出願日： 1993年04月23日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 反応負荷が高くなっても、良好で均一な反応を保証しながら、反応室内の循環粒子の懸濁密度を必要以上に増加させずに、反応室内壁の粒子による摩耗を防止できる設備信頼性の高い、流動層反応装置及びその制御方法を提供する。【構成】 流動層反応室3、固形物分離器7及び再循環管路11からなる流動層反応装置であって、流動層反応室3の底部に、反応室の底部面積より小さい断面積を有し、循環粒子を一時的に溜める溜め升14を設け、その溜め升14の底部から反応ガスを吹き込むための1次ガス供給導管4を設け、溜め升の上方で、かつ、流動層反応室3の壁面から反応ガスを吹き込むための2次ガス供給導管15を設けたことを特徴とする流動層反応装置。

請求項（抜粋）：

流動層反応室、固形物分離器及び再循環管路からなる流動層反応装置であって、流動層反応室の底部に、反応室の底部面積より小さい断面積を有し、循環粒子を一時的に溜める溜め升を設け、その溜め升の底部から反応ガスを吹き込むための1次ガス供給導管を設け、溜め升の上方で、かつ、流動層反応室の壁面から反応ガスを吹き込むための2次ガス供給導管を設けたことを特徴とする流動層反応装置。

IPC (4件)：

B01J 8/24 321 ,  B01J 8/24 311 ,  F23C 11/02 305 ,  F23C 11/02 311

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-233204
  
• 特開昭63-233204