特許
J-GLOBAL ID：200903043404159883
スパッタリング・ターゲット部材アセンブリの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉村 悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-142797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-195217
出願日： 1992年06月03日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【目的】 製造中に発生するひずみを最小にすることのできるスパッタリング・ターゲット材アセンブリの製造方法、及び該方法により製作されるターゲット部材アセンブリを提供する。【構成】 ターゲット部材に形成された外部の肩部に支持部材を位置決めし、双方の相対する表面を電子ビーム溶接し、そして、溶接されたアセンブリの内側面を加工してターゲット部材と支持部材との各内側面に沿って共に延長する新たな表面を形成する各工程により構成される。このようにして得られたターゲット部材アセンブリは高い水圧と高度のスパッタリング・パワーレベルとに耐え得るものである。
請求項（抜粋）：
上部のターゲット部材表面と、下部端と、内側面及び外側面とを備えたターゲット部材を形成し、上記ターゲット部材にたいする支持部材は頂部表面と内側及び外側面を備え、頂部表面はターゲット部材の下部端に咬合し、ターゲット部材の外側面に肩部を形成し、該肩部はターゲット部材の下部端において上記外側面から内側方向及び下方に延在しリップにおいて終結し、該リップの一方は上記内側面にあり、支持部材の頂部表面がターゲット部材と面接触し且つ支持部材の内側面がリップと面接触をするように上記ターゲット部材の肩部内に支持部材の頂部表面を位置決めし、支持部材の寸法は支持部材の外側面がターゲット部材の外側面と実質的に共に延長するように肩部に関連して定め、ターゲット部材及び支持部材を共に確実に保持し、ターゲット部材と支持部材との面接触面を電子ビーム溶接し、支持部材の内側面とターゲット部材のリップを除去し、支持部材及びターゲット部材の両内側面に沿って共に延長する新たな内側面を形成することを特徴とするスパッタリング・ターゲット部材アセンブリの製造方法。
IPC (2件)：
C23C 14/34
, B23K 15/00 505
