特許

J-GLOBAL ID：200903043406234076

塩化ゴム製造用ポリイソプレン系ゴムラテックスの製造法

発明者： 藤本 健 ,  井上 利洋 ,  宮本 健三
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 和田 靖郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-262049
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104704
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】凝集物を生じることなく塩化ゴム製造用ポリイソプレン系ゴムラテックスを製造することができる方法を提供する。【構成】イソプレン、またはイソプレンと他の共重合可能な単量体を、HLBが12以上のポリエチレングリコール型脂肪族ノニオン系界面活性剤の存在下に重合することを特徴とする塩化ゴム製造用ポリイソプレン系ゴムラテックスの製造法。【効果】凝集物を生じることなく塩化ゴム製造用ポリイソプレン系ゴムラテックスを製造することができ、それを塩素化することにより有機溶剤に溶け易い高品質の塩化ゴムを得ることができる。

請求項（抜粋）：

イソプレン、またはイソプレンと他の共重合可能な単量体を、HLBが12以上のポリエチレングリコール型脂肪族ノニオン系界面活性剤の存在下に重合することを特徴とする塩化ゴム製造用ポリイソプレン系ゴムラテックスの製造法。

IPC (5件)：

C08F 2/30 MBY ,  C08F 8/22 MGU ,  C08F 36/08 MNX ,  C09D115/02 PGP ,  C09J115/02 JDN