特許

J-GLOBAL ID：200903043416804911

露光方法及び装置

発明者： 斉藤 謙治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-154595
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353103
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：

【要約】【課題】 構成が単純で経済性に優れた投影光学系を利用して露光領域を拡大することができる露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 マスク上のパターンを投影露光装置により被処理体に投影し、前記被処理体に所望のパターンを形成する露光方法において、前記マスク上の露光パターン領域を複数に分割し、分割された領域毎に別々の投影光学系を用い、倒立像として前記被処理体に露光することを特徴とする露光方法を提供する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを投影露光装置により被処理体に投影し、前記被処理体に所望のパターンを形成する露光方法において、前記マスク上の露光パターン領域を複数に分割し、分割された領域毎に別々の投影光学系を用い、倒立像として前記被処理体に露光することを特徴とする露光方法。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/06 ,  G02B 13/24 ,  G02B 19/00 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/22

FI (8件)：

G02B 3/00 A ,  G02B 3/06 ,  G02B 13/24 ,  G02B 19/00 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (21件)：

2H052BA02 ,  2H052BA03 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087LA25 ,  2H087RA26 ,  2H087RA46 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC15