特許

J-GLOBAL ID：200903043429319796

レーザーイオン化質量分析装置

発明者： 辻下 正秀 ,  横尾 雅一
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086329
公開番号（公開出願番号）：特開2000-283962
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 従来構造を踏襲しながら比較的高い分析感度を得ることができるレーザーイオン化質量分析装置を得る。【解決手段】レーザー光4を測定対象分子の分子ビーム3に照射して、前記測定対象分子をイオン化してそのイオン電流を検知して質量分析を行うレーザーイオン化質量分析装置において、前記イオン化のためのレーザー光4として、前記分子ビーム3の流れ方向に長軸を有する偏平なレーザー光を前記分子ビームに照射して、イオン化を行う。

請求項（抜粋）：

レーザー光を測定対象分子の分子ビームに照射して、前記測定対象分子をイオン化してそのイオン電流を検知して質量分析を行うレーザーイオン化質量分析装置であって、前記イオン化のためのレーザー光として、前記分子ビームの流れ方向に長軸を有する偏平なレーザー光を前記分子ビームに照射して、イオン化を行うレーザーイオン化質量分析装置。

IPC (3件)：

G01N 27/64 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/10

FI (3件)：

G01N 27/64 B ,  G01N 27/62 G ,  H01J 49/10

Fターム (3件)：

5C038GG07 ,  5C038GH10 ,  5C038GH17