特許
J-GLOBAL ID:200903043441239099

マイクロレンズアレイのブラックマスク形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-269966
公開番号(公開出願番号):特開2003-075607
出願日: 2001年09月06日
公開日(公表日): 2003年03月12日
要約:
【要約】【課題】マイクロレンズアレイのブラックマスクを簡便で且つ低コストで形成することができるブラックマスクの形成方法を提供すること。【解決手段】低粘度のブラックインク組成物をマイクロレンズアレイの凸レンズ側全表面に塗布し、常温乾燥させ、該乾燥したインク組成物を溶解することができる溶剤を含浸した液体吸収性弾性体を該凸レンズ側表面に加圧接触させて、マイクロレンズアレイの凸レンズ面上の該乾燥したインク組成物を溶解させて該液体吸収性弾性体に吸収させるが、マイクロレンズアレイの凸レンズ間谷部の該乾燥したインク組成物は残留させてブラックマスクとする、マイクロレンズアレイのブラックマスク形成方法。
請求項(抜粋):
低粘度のブラックインク組成物をマイクロレンズアレイの凸レンズ側全表面に塗布し、常温乾燥させ、該乾燥したインク組成物を溶解することができる溶剤を含浸した液体吸収性弾性体を該凸レンズ側表面に加圧接触させて、マイクロレンズアレイの凸レンズ面上の該乾燥したインク組成物を溶解させて該液体吸収性弾性体に吸収させるが、マイクロレンズアレイの凸レンズ間の谷部の該乾燥したインク組成物は残留させてブラックマスクとすることを特徴とするマイクロレンズアレイのブラックマスク形成方法。
IPC (2件):
G02B 3/00 ,  G02B 5/00
FI (2件):
G02B 3/00 A ,  G02B 5/00 B
Fターム (2件):
2H042AA09 ,  2H042AA15
引用特許:
審査官引用 (3件)

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