特許

J-GLOBAL ID：200903043446081361

光学活性3級ホスフィン化合物、これを配位子とする遷移金属錯体およびこれを用いる製造法

発明者： 岩倉 和憲 ,  南井 正好
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-127786
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330786
出願日： 1994年06月09日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】新規なホスフィン化合物およびこれを触媒として用いるオレフィンの不斉ヒドロシリル化反応を利用した光学活性有機ケイ素化合物の製造法を提供すること。【構成】一般式(1)(R1 は、低級アルキル基または水素原子を示し、低級アルキル基は、ハロゲン、低級アルコキシ、フェニルで置換されていてもよい、X1 はハロゲン原子、nは1〜5の整数。)で表される3級ホスフィン化合物またホスフィン化合物を配位子とする遷移金属錯体。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(式中、R1 は、低級アルキル基または水素原子を示し、ここで低級アルキル基は、ハロゲン原子、低級アルコキシ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい。X1 はハロゲン原子を示し、nは1〜5の整数を示す。)で表される3級ホスフィン化合物。

IPC (6件)：

C07F 9/50 ,  B01J 31/18 ,  C07F 7/14 ,  C07F 7/18 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00