特許
J-GLOBAL ID：200903043453379112
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222975
公開番号（公開出願番号）：特開平8-085875
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【構成】ウエイト(4)やサセプタ(3)といった基板周辺部材の端面をイオンの入射方向に対して傾け、その端面にイオンが照射されるようにした。これにより、端面に入射して堆積していた反応生成物などの方向性の無い粒子がイオンで除去され、堆積膜の増加速度が抑制される。これにより異物の発生も抑制される。【効果】異物の発生が抑制されるので、プラズマ処理装置の清掃までの期間が長くなり、稼働率、歩留まり向上などの効果が得られる。
請求項（抜粋）：
プラズマを用いて被処理物を処理するプラズマ処理装置において、被処理物を載置した基板ホルダとそれに付属するカバーや被処理物を保持する部材、ガス均一化部材などプラズマ中のイオンが照射される部材の形状の内、イオンの入射方向と略平行な面をイオンが照射されるように傾けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H01L 21/68
