特許

J-GLOBAL ID：200903043476781570

平面表示装置用基板または半導体素子の製造方法

発明者： 後藤 寿一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 蔦田 璋子 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150115
公開番号（公開出願番号）：特開2002-344111
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】 処理液を繰り返し用いて複数の基板または基体を処理する工程を含む平面表示装置または半導体素子の製造方法において、揮発成分を含む処理液の成分組成を容易に一定に保つことができ、これにより処理液の利用効率を向上することができるものを提供する。【解決手段】蒸発して散失する成分組成に対応する補正液を準備しておき、蒸発により処理液が減少したと考えられる分量だけ、この補正液を追加する。または、処理液に染料等の着色剤を添加しておき、着色濃度を測定することにより非蒸発性成分の濃度をリアルタイムで検出し、この検出結果に基づき成分組成の補正を行う。

請求項（抜粋）：

揮発性成分を少なくとも1種含有する処理液を繰り返し用いて複数の基板または基体を処理する工程を含む平面表示装置用基板または半導体素子の製造方法において、前記処理液に予め着色剤を溶解または分散させておく工程と、前記処理液の着色濃度を測定する着色度測定工程と、前記推定結果に基づき前記処理液の成分組成を補正する濃度補正工程とを含むことを特徴とする平面表示装置用基板または半導体素子の製造方法。

IPC (9件)：

H05K 3/06 ,  B01J 19/00 ,  C23F 1/20 ,  C23F 1/46 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/306

FI (9件)：

H05K 3/06 D ,  B01J 19/00 K ,  C23F 1/20 ,  C23F 1/46 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 651 G ,  H01L 21/306 F

Fターム (34件)：

2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088HA01 ,  2H088MA16 ,  2H090JC19 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA10 ,  4G075BC06 ,  4G075BD16 ,  4G075FB01 ,  4K057WA19 ,  4K057WB05 ,  4K057WB15 ,  4K057WB17 ,  4K057WE02 ,  4K057WE04 ,  4K057WE12 ,  4K057WH10 ,  4K057WL10 ,  4K057WM04 ,  4K057WN01 ,  4K057WN04 ,  5E339BE13 ,  5E339BE16 ,  5E339BE17 ,  5E339EE03 ,  5F043AA24 ,  5F043DD13 ,  5F043EE21 ,  5F043EE23 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33 ,  5F043GG02