特許

J-GLOBAL ID：200903043493808750

放射線感応性組成物

発明者： ムニラチュナ、パドマナバン ,  木 下 義 章 ,  末 廣 なつみ ,  工 藤 隆 範 ,  増 田 誠 也 ,  野 崎 優 子 ,  岡 崎 博 ,  ゲオルグ、パウロウスキ
出願人/特許権者： ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-028322
公開番号（公開出願番号）：特開平7-238196
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】(a)ポリ(4-ヒドロキシスチレン-コ-スチレン)、等の共重合体、(b)ポリアセタールの様な溶解防止剤、または、(b' )架橋剤、(c)放射線に露出した時に酸を発生し得る放射線感応性化合物、(d)露出から熱処理まで線幅を安定化することができる放射線感応性塩基、および(e)成分a〜dを溶解させるための溶剤を含む、化学的に増幅された放射線感応性組成物。【効果】KrFレーザーを使用して0.22ミクロンまでの微細な線および空間を良好に実現することができ、優れた耐熱性および耐腐食性、基材に対する接着性を有し、基材の露出光の反射性により生じる定在波が低いパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

a)式-(CH2 -CHR)m -(CH2 -CR1 R2 )n -(式中、Rは水酸基により置換されたおよび所望によりさらにアルキル基により置換されたアリールであり、前記水酸基は酸により開裂し得る基で部分的に保護されていることができ、R1 は水素またはメチル基であり、R2 はフェニル、アルキル置換されたフェニル、ハロゲン化フェニル、またはアクリル酸エステル基であり、mおよびnは1以上の数である。)で表される共重合体、b)一般式(-CHR3 -O-R4 -X-NR5 -)p(式中、R3 はアルキルまたはアリールまたは置換されたアリール基であり、R4 はアルキル、シクロアルキル、アルケン、アルキン基であり、R5 はアルキル、アルケン、アルキン、シクロアルキル基であり、Xは-OCO-、-CO-、または-NHCO-であり、pは1以上の数である。)で表されるポリアセタール、c)放射線に露出した時に酸を発生し得る放射線感応性化合物、d)放射線に露出することにより中性化合物に分解し得る塩基、およびe)成分a)、b)、c)およびd)を溶解させるための溶剤を含むことを特徴とする、ポジ型放射線感応性組成物。

IPC (6件)：

C08L 25/18 LEK ,  C08L 25/18 LEA ,  C08L 59/00 LMP ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027