異常原因特定システムおよびその方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019537
公開番号（公開出願番号）：特開2000-222033
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】製造ラインに対してダミー基板を頻繁に流すこと無く、多数の異物などの欠陥の発生原因となる製造設備や製造工程を特定することができるようにする。【解決手段】各々の種類の製造設備および製造工程で発生する欠陥に関する複数種類の特徴量データを参照データ101として作成して記憶装置2に登録する参照データ作成工程と、製造設備および製造工程で処理されて得られる処理基板に発生した欠陥について検査装置11、13で検査して欠陥についての画像データおよび元素分析データを基にその欠陥の複数種類の特徴量データを取得する検査工程と、検査工程で取得された欠陥についての複数種類の特徴量データと参照データベースに登録された各種製造設備および製造工程対応の参照データとの相関関係を抽出し、最も相関の強いものから異常の原因となる製造設備および製造工程の種類を特定する照合工程とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

予め、製造ラインを構成する複数種類の製造設備に対応させて、該各々の種類の製造設備で発生する欠陥に関する複数種類の特徴量データを参照データとして登録しておく参照データベースと、製造ラインを構成する複数種類の製造設備で処理されて得られる処理基板に発生した欠陥についての複数種類の特徴量データを取得する検査装置と、該検査装置で取得された欠陥についての複数種類の特徴量データと前記参照データベースに登録された各種製造設備対応の参照データとの相関関係を抽出し、最も相関の強いものから異常の原因となる製造設備の種類を特定する照合手段とを備えたことを特徴とする異常原因特定システム。

IPC (4件)：

G05B 23/02 302 , G06F 17/60 , G06T 7/00 , G06F 17/40

FI (4件)：

G05B 23/02 302 Y , G06F 15/21 R , G06F 15/62 405 Z , G06F 15/74 330 Z

Fターム (37件)：

5B049BB07 , 5B049CC21 , 5B049CC34 , 5B049EE02 , 5B049EE03 , 5B049EE05 , 5B049EE07 , 5B049EE56 , 5B049EE59 , 5B049FF07 , 5B057AA03 , 5B057CF02 , 5B057DA03 , 5B057DC01 , 5B057DC04 , 5B057DC22 , 5B057DC32 , 5B057DC34 , 5B057DC36 , 5H223AA05 , 5H223AA15 , 5H223CC08 , 5H223DD03 , 5H223EE06 , 5H223FF03 , 9A001BB05 , 9A001BB06 , 9A001CC02 , 9A001HH23 , 9A001JJ01 , 9A001JJ46 , 9A001KK16 , 9A001KK31 , 9A001KK37 , 9A001LL05 , 9A001LL08 , 9A001LL09

引用特許：

審査官引用 (3件)

半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-334606 出願人：株式会社日立製作所
真空中処理基板検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-067357 出願人：株式会社日立製作所
非製品ウェハ管理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-131091 出願人：九州日本電気株式会社

前のページに戻る