静電荷像現像剤および画像形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鐘尾宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-081906
公開番号（公開出願番号）：特開2001-265052
出願日： 2000年03月23日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】少量の使用で、傷の発生なくアモルファス感光体の研磨を行うことができるとともに、静電荷像現像剤の研磨材として窒化珪素微粉体を用いる際の臭気の問題、画像劣化の問題が改善された静電荷像現像剤を提供する。【構成】静電荷像現像剤中に添加する研磨材として、表面に酸化膜を有する窒化珪素微粉体を用いる。表面に酸化膜を有する窒化珪素微粉体としては、Si窒化法で製造された窒化珪素微粉体を湿式処理あるいは酸化処理するか、イミド熱分解法により製造されたアモルファス窒化珪素を微量の酸素の存在下で焼成して結晶化した後、必要に応じ更に酸化処理、疎水化処理したものが好ましく用いられる。

請求項（抜粋）：

研磨材とトナー粒子とを含有する静電荷像現像剤において、研磨材が、表面に酸化膜を有する窒化珪素微粉体であることを特徴とする静電荷像現像剤。

IPC (3件)：

G03G 9/08 374 , G03G 5/08 105 , G03G 9/083

FI (3件)：

G03G 9/08 374 , G03G 5/08 105 , G03G 9/08 101

Fターム (19件)：

2H005AA02 , 2H005AA08 , 2H005AB02 , 2H005CA26 , 2H005CB12 , 2H005CB20 , 2H005DA07 , 2H005DA10 , 2H005FA01 , 2H005FA06 , 2H068DA00 , 2H068DA01 , 2H068DA21 , 2H068FA01 , 2H068FA15 , 2H068FA16 , 2H068FC08 , 2H068FC15 , 2H068FC20

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭60-179748
特開平2-002575
特開平1-105263

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