特許
J-GLOBAL ID：200903043508540651
露光用マスクとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-114507
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296648
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】本発明の課題は、ニッケルメッキを用いた露光用マスクを提供することにある。【解決手段】透明基板上に少なくともニッケルを含有する遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、該遮光膜が金属酸化物層によって透明基板上に保持されていることを特徴とする露光用マスク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に少なくともニッケルを含有する遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、該遮光膜が金属酸化物層によって透明基板上に保持されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 G
, H01L 21/30 502 P
