特許
J-GLOBAL ID:200903043556409796

フッ素含有表面改質シリカ粉体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千葉 博史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-379844
公開番号(公開出願番号):特開2004-210566
出願日: 2002年12月27日
公開日(公表日): 2004年07月29日
要約:
【課題】帯電量が大きく、高い疎水性を有し、トナーに添加して用いた場合に優れた画像特性を得ることができる表面改質シリカ粉体を提供する。【手段】フッ素含有シラン化合物Aとフッ素を含有しないシラン化合物Bとを併用して疎水化処理されたシリカ粉体であって、上記シラン化合物ABの合計量がシリカ粉体100重量部に対して10〜35重量部であり、かつ上記シラン化合物Aの量が上記シラン化合物Bの量に対して1/2以下(2A≦B)の条件下で表面処理されたことを特徴とし、摩擦帯電量が-500μC/gより大きく、疎水率が70%以上であることを特徴とするフッ素含有表面改質シリカ粉体。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
フッ素含有シラン化合物Aとフッ素を含有しない疎水化剤Bとを併用して疎水化処理されたシリカ粉体であって、上記シラン化合物Aと疎水化剤Bの合計量がシリカ粉体100重量部に対して10〜35重量部であり、かつ上記シラン化合物Aの量が上記疎水化剤Bの量に対して1/2以下(2A≦B)の条件下で表面処理されたことを特徴とするフッ素含有表面改質シリカ粉体。
IPC (2件):
C01B33/18 ,  G03G9/08
FI (3件):
C01B33/18 C ,  G03G9/08 371 ,  G03G9/08 375
Fターム (16件):
2H005AA08 ,  2H005CA11 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA38 ,  4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072HH05 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072LL11 ,  4G072LL15 ,  4G072QQ07 ,  4G072UU30
引用特許:
審査官引用 (9件)
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